Zemax OpticStudio 18.4 全新發(fā)布
近期針對 OpticStudio 用戶的調查回訪顯示,對于工程師而言,在進行產品仿真時,OpticStudio 最重要的功能之一就是能夠在同一光學系統(tǒng)中分別進行序列和非序列光線追跡。對于產品而言,在仿真建模時,確保其可制造性是非常重要的,這就包括需要在序列模式下進行設計與分析,也需要在非序列模式下進行模擬。無論系統(tǒng)簡單還是復雜,OpticStudio 都可以在生產樣機之前就幫助你解決光學設計方面的問題。本次發(fā)布的 OpticStudio 18.4,包含多個新增功能以及功能增強,來幫助你更加精準的仿真光學系統(tǒng)。
全新全視場像差分析 – 通過對您的系統(tǒng)進行全視場分析,觀測不同類型的像差是如何降低您系統(tǒng)的光束或成像質量,極大地增進了您在自由曲面領域的設計體驗
轉換為NSC組工具的更新升級 – 使具有偏心孔徑的離軸系統(tǒng)實現(xiàn)自動轉換
全新組合透鏡物體 – 在非序列模式下模擬復雜透鏡,用于雜散光分析以及光機設計
全新原生布爾物體 – 在復雜物體內進行更快速度、更高精度以及更可靠的光線追跡
OpticStudio 為快速驗證光學設計想法提供了靈活、直觀并且強大的建模環(huán)境。我們近期的調查結果顯示,對于用戶而言,OpticStudio 的用戶界面以及整體可用性依然至關重要。本次發(fā)布的新版本,針對可用性有以下更新:
全新搜索功能 – 使用該功能,幫助你在編輯器中快速找到需要的表面、物體或操作數(shù)
全新書簽功能 – 使用該功能,充分完善對編輯器內容的組織安排。
想要了解新版本的全部新功能以及改進,請點擊參閱 OpticStudio 18.4版本說明。
